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PVD中频磁控溅射真空镀膜设备专业生产厂家。采用物理气相法

PVD中频磁控溅射真空镀膜设备专业生产厂家。采用物理气相法图片
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产品: PVD中频磁控溅射真空镀膜设备专业生产厂家。采用物理气相法 
型号: WAM-1200 
规格: 1200*1200 
品牌: PVD中频磁控溅射真空镀膜设备专业生产厂家。采用物理气相法 
价格: 1.00元/套 
标签: 中频磁控溅射镀膜机
更新日期: 2022-05-23  
联系方式

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PVD中频磁控溅射真空镀膜设备产品介绍

中频磁控溅射镀膜法采用超高真空10-3以下,在密闭高真空容器里面配合高温。利用PVD物理气相沉积。在表面形成致密金属膜层,表面离子分列均匀,结合气体与靶材的化学分子反应,可结合出化合物膜。使之表面涂层硬度更高,各项性能得到很好提升,更能够得到各种颜色的金属膜层。IP中频磁控溅射镀膜设备主要是(集)直流磁控溅射,中频溅射和电弧离子蒸发三种技术融合一体,结合线离化源及泳冲偏压镀膜可使沉积颗粒细化。膜层各项性能提高,能在金属制品及非金属表面镀制合金膜、化合物膜、多层复合膜等。广泛适用于手表、首饰穿刺、眼镜框架、手机壳、居家装饰五金、卫浴洁具、餐具等。可镀制Tin、Tio、TiCN、CrN、TiALN、TiNbu、ZrN、TiNC等等。可镀膜颜色有玫瑰金,宝石蓝,黄钛金,咖啡色、仿古铜、IP黑,枪黑色等各种性能的各种颜色。

本公司可按用户要求提供设计,提供全套设备,负责工艺,按交“钥匙”工程服务。

本文引用地址:http://www.worldmetal.cn/sell/show-1599589-1.html
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